工研院跨領域研發「低溫大氣壓電漿透明導電鍍膜制程與設備電漿鍍膜」,這項研究獲選工研院今年的「傑出研電漿設備究金牌獎」,昨天在工研院37周年電源供應器院慶中獲得表揚。

工研院成功突破昂貴的真空技術,研發出新一代透明導電鍍膜制程和設備,不但節省三分之二的成本,更用「鋅」取代稀有的「AP Plasma銦」材料,是項兼顧環保的綠色制程。這項技術,可以應用在觸控面板及太陽能(PV)的透明電極制造上。

銦錫氧化(ITO)透明導電膜占電阻式觸控面板成本高達九成,日商日東電工及尾池擁有全球七成市占率。若工研院這項「低溫大氣壓電漿透明導電鍍膜制程與設備技術」能順利進入量產,不僅會協助台灣ITO透明導電膜廠擴大市占,也讓觸控面板和P鎢鋼銑刀V制造成本大幅下降。

工研院昨(5)日舉行37周年院慶典禮,會中頒發奪得傑出研究金牌獎的「低溫大氣壓電漿透明導電鍍膜制程與鍍膜代工設備技術」,是花了六年時間研發出的成果。

代表領獎的機械所研究員張加強說,會舍棄傳統技術,改采非真空大氣壓電漿技術,是因為執著創新的精神,而成就獲獎的榮耀。

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