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工研院跨領域研發「低溫大氣壓電漿透明導電鍍膜制程與設備電漿鍍膜」，這項研究獲選工研院今年的「傑出研電漿設備究金牌獎」，昨天在工研院37周年電源供應器院慶中獲得表揚。

工研院成功突破昂貴的真空技術，研發出新一代透明導電鍍膜制程和設備，不但節省三分之二的成本，更用「鋅」取代稀有的「AP Plasma銦」材料，是項兼顧環保的綠色制程。這項技術，可以應用在觸控面板及太陽能（PV）的透明電極制造上。

銦錫氧化（ITO）透明導電膜占電阻式觸控面板成本高達九成，日商日東電工及尾池擁有全球七成市占率。若工研院這項「低溫大氣壓電漿透明導電鍍膜制程與設備技術」能順利進入量產，不僅會協助台灣ITO透明導電膜廠擴大市占，也讓觸控面板和P鎢鋼銑刀V制造成本大幅下降。

工研院昨（5）日舉行37周年院慶典禮，會中頒發奪得傑出研究金牌獎的「低溫大氣壓電漿透明導電鍍膜制程與鍍膜代工設備技術」，是花了六年時間研發出的成果。

代表領獎的機械所研究員張加強說，會舍棄傳統技術，改采非真空大氣壓電漿技術，是因為執著創新的精神，而成就獲獎的榮耀。